光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。　　光刻胶领域取得新突破　　据科技日报，近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三......

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